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Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc. China (688012.SS)

Shanghai - Shanghai Prix différé. Devise en CNY
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140,80+0,92 (+0,66 %)
À la clôture : 03:00PM CST

Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc. China

No. 188, Taihua Road
Jinqiao Export Processing Zone (South District) Pudong New Area
Shanghai 201201
China
86 21 6100 1199
https://www.amec-inc.com

Secteur(s)Technology
Secteur d’activitéSemiconductor Equipment & Materials
Employés à temps plein1 722

Dirigeants clés

NomTitrePayerExercéAnnée de naissance
Dr. Gerald Zheyao Yin Ph.D.Chairman & GMS.O.S.O.1944
Mr. Weiwen ChenSenior VP & CFOS.O.S.O.1967
Dr. Tuqiang NiSenior VP & GM of New Business GroupS.O.S.O.1962
Mr. Xiaoyu LiuBoard Secretary & Deputy GMS.O.S.O.1980
Haitao GaoGroup Vice President of OperationsS.O.S.O.S.O.
Mr. Matt RubyGroup Vice President & Chief Legal OfficerS.O.S.O.S.O.
Mr. George CaoVice President of Corporate Affairs & Corporate MarketingS.O.S.O.S.O.
Wilson HeGroup Vice President of Human ResourcesS.O.S.O.S.O.
Mr. Michael ChuSenior Vice President of Global Business ManagementS.O.S.O.S.O.
Ms. Susan OverstreetVP & President of AMEC North AmericaS.O.S.O.S.O.
Les montants ont été établis en date du et les valeurs de compensation concernent le dernier exercice fiscal clos à cette date. Le terme « rémunération » désigne le salaire, les bonus, etc. Le terme « exercé » est utilisé pour la valeur des options exercées au cours de l’exercice fiscal. Devise exprimée en CNY.

Description

Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc. China engages in the research and development, manufacture, and sale of high-end semiconductor equipment and pan-semiconductor equipment in China. It offers capacitive plasma etching equipment that is used in the etching of dielectric materials such as silicon oxide, silicon nitride, and low dielectric coefficient film layers in integrated circuit manufacturing; inductive plasma etching equipment and deep silicon etching equipment, which is used in the etching of monocrystalline silicon, polycrystalline silicon, and various dielectric materials in integrated circuit manufacturing; and MOCVD equipment that is used in the etching of through holes and trenches, such as CMOS image sensors, MEMS chips, 2.5D chips, 3D chips, etc. The company also provides accessories and services to the downstream integrated circuit, LED epitaxial wafer, advanced packaging, MEMS, and other semiconductor product manufacturing companies. Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc. China was founded in 2004 and is headquartered in Shanghai, the People's Republic of China.

Gouvernance d’entreprise

L’ISS Governance QualityScore de Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc. China en date du S.O. est S.O.. Les scores principaux sont Audit : S.O.; Société : S.O.; Droits des actionnaires : S.O.; Compensation : S.O..

Résultats de gouvernance d’entreprise offerts par Institutional Shareholder Services (ISS). Les résultats indiquent un rang décile par rapport à l’indice ou à la région. Un résultat décile de 1 indique un risque de gouvernance faible, tandis que 10 indique un risque de gouvernance élevé.